OTFC-1550光学镀膜机配置:
真空室:SUS304,Ф1550*1800MM
工件架:Ф1400
工件架转速:10rpm to 30rpm (可变)
光学膜厚控制:HOM2
光学膜厚监控仪:波长范围: 350nm to 1100nm |反射式
蒸发源:双,伞一个,上架伞车一台
离子源:17寸射频源
排气系统:光驰镀膜机泵组一套
电源:3相, 200v, 50/ 60Hz,约120KVA
水流量:180升/分以上
空气压力:0.5MPa以上
重量:约11000kg
年份:2014-2015年
真空镀膜工艺?
所谓真空镀膜机工艺在真空环境下,利用蒸发、溅射等方式发射出膜材料粒子,沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层,达到装饰、保护、防污、防潮、延长物体寿命等作用。目前,真空镀的方式有许多种,包括真空电阻加热蒸发,电子加热蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积,离子束溅射等。
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