回收/出售/二手磁控溅射电镀机 光学镀膜线 蒸发镀膜设备 多弧电镀机介绍
磁控溅射镀膜机的工作原理主要涉及到磁场与电场的交互作用。
在磁控溅射过程中,电子在电场的作用下加速飞向基片,与氩原子发生碰撞,可能电离出Ar正离子和新的电子。这些电子继续飞向基片,而Ar离子则在电场作用下加速轰击靶材,溅射出靶材原子,形成薄膜
此外,在磁控溅射中,二次电子在加速飞向基片的过程中受到磁场的影响,被束缚在靠近靶面的等离子体区域内。这些电子围绕靶面作圆周运动,与氩原子持续发生碰撞,电离出更多的Ar离子,从而增加了对靶材的轰击,提高了沉积速率。随着碰撞次数的增加,电子的能量逐渐降低,最终沉积在基片上。
磁控溅射镀膜机的基本原理是通过磁场改变电子的运动轨迹,延长其与气体分子的碰撞时间,从而提高电子的电离概率和沉积效率。这种技术不仅适用于金属和合金的镀膜,也适用于一些特殊材料如陶瓷。
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