适用于铁氧体,高频晶片,硅片,石英晶体,玻璃,陶瓷,蓝宝石,密封件双面抛光或研磨
主要用途:
广泛用于LED蓝宝石衬底、光学玻璃晶片、石英晶片、陶瓷、硅片、诸片、模具、导光板、不锈钢,光扦接头等各种材料的单面研磨、抛光。
工作原理:
本平面抛光机为精密研磨抛光设备,被磨、抛材料放于研磨盘上,研磨盘逆时钟转动,修正轮带动工件自转,重力加压的方式对工件施压,工件与研磨盘作相对运转磨擦,来达到研磨抛光目的。
特点:
1.采用间隔式自动喷液装置,可自由设定喷液间隔时间。
2. 该抛光机工件加压采用气缸加压的方式,压力可调; 抛光后工件表面光亮度高、无划伤、无料纹、无麻点、不塌边、平面度高等特点。抛光后工件表面粗糙度可达到Ra0.0002;平面度可控制在±0.002mm范围内。
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